Réalisation de guide d'onde en technologie microélectronique dans des couches épaisses de Silicium Polycristallin

Compétences requises : 

  • Connaissance en technologie microélectronique

  • Environnement de la salle blanche

  • Propriétés des guides d'ondes

  • Bonne compréhension de l'anglais technique

 

taille : 1cm x 4µm

Objectif : Zéro défauts.

 

Les défauts le long du guide nuisent à la 

transmission des ondes.
Suite à un dépôt épais de Silicium polycristallin d'épaisseur 5 µm sur substrats silicium oxydé, il s'agit de développer un procédé de gravure afin d'obtenir des guides optiques de différentes largeur.
Le travail consiste à optimiser les paramètres de photolithogravure (enduction de résine, recuits, gravure sèche du silicium polycristallin et délaquage de résine) et de gravure afin d'obtenir un ensemble de guides comportant zéro défaut sur le dispositif de test.
Les guides réalisés doivent avoir un rendement de 50% pour permettre une utilisation convenable dans des systèmes optiques intégrés à même le substrat..

TER réalisé par Loïs Le Danvic et Guillaume Gadby                 

Tuteur : H. LHERMITE