Réalisation de guide d'onde en technologie microélectronique dans des couches épaisses de Silicium Polycristallin,
Ce TER consiste à réaliser un process permettant la réalisation de guide d'onde avec zéro défauts.
Ces guides d'ondes sont réalisés en technologie microelectronique dans des couches épaisses de silicium polycristallin.
Le travail consistera à optimiser les paramètres de photolithogravure (enduction de résine, recuits, gravure sèche du silicium polycristallin et délaquage de résine) afin d'obtenir des tranchées régulières espacées de 5 µm et d'environ un centimètre de longueur.
Dans un premier temps, nous définirons le temps d'insolation optimal de la résine négative SU8 afin d'obtenir des motifs de test d'environ 3µm parfait.
Une fois les caratéristique de la résine établies, nous passerons aux paramètres de gravure du silicium.
Ces guides d'ondes sont destinés à la transmission d'ondes lumineuse. Les plaquettes de test, une fois réaliser seront envoyées a l'ENSAT de Lannion qui dispose du matériel nécessaire pour les tester.
Ce TER est réaliser dans les locaux de l'IETR, notamment dans la salle blanche de technologie microélectronique du CCMO/IETR située dans le bâtiment 11B.


Compétences mobilisées
- Connaissances de l'environnement et des outils d'une salle blanche.
- Connaissances des différents procédés technologiques intervenants (Gravure RIE, Spin-coating, Expose...).
- Propriétés des guides d'ondes en Silicium.

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Gadby Guillaume et Le Danvic Loïs, MEEA, 2004